世の中には简単そうに见えて、実は难しいことがたくさんある。プロのスポーツプレーヤーや音楽家は难しい技をいとも简単そうに见せてくれる。しかし、その域に达するには并々ならぬ努力が必要なのだ。
话変わって、先日アルミゲート惭翱厂贵贰罢を作る実习を行った。2007年から毎年夏に、先端研の半导体実践讲座という実习を行っており、2011年までは、本格的な尝翱颁翱厂分离、辫辞濒测-厂颈ゲートの贵贰罢を、教员?研究员?学生総势10名以上の协力を得て、设计から製作?测定までを1週间かけてやるプログラムである。本学?他大学、公司の方が毎年数人~10人程度参加していただき、好评だった。しかし、作业量がたいへん多く受讲生が帰ってから毎晩夜中まで作业する日が続く。もっと简単にするために、尝翱颁翱厂はやめ、酸化、ウェットエッチに切り替えた。辫辞濒测-厂颈ゲート?セルフアラインもやめ、最初にソース/ドレインをレジストマスクとヒ素イオン注入で作り、あとから目合わせでアルミゲートを形成する。これだと、製作日数は3日で済む。2012年から始めて2年间はうまくいった。しかし、昨年(2014年)は、ソース/ドレインと基板间のリーク电流が発生し、彻夜でやり直して何とか动かした。インプラ后、アニールせずにいきなり酸化したことが原因と思われ、今年はこの点を改めうまくいくはすであった。ところが、予想に反して、この方法でも、昨年と同様のリークが発生した。炉の汚染、インプラの不调など様々な原因を想定し、彻夜で原因究明?復旧作业を行った。これぞと思われる方策を讲じて作り直したが、リークが修まらない。その代わり、工程ごとにチェックを入れたため、アルミゲート形成后の400℃アニール(PMA)によってリークが増大することを见出した。そこで、これを省略して再度作り直し、やっとまともな特性が得られたのが最终日の昼。残りの半日で13名の受讲生が、各自设计した回路を测定し、なんとか穷地をしのぐことができた。2日の彻夜をものともせず、最后まであきらめずに协力してくれた、教员?研究员?学生に対して感谢の気持ちでいっぱいである。半导体プロセスは、実に繊细であり、同じレシピーでも作业员が変わると失败することさえある。メタルゲートに替えてうまくいった最初の2年间は「まぐれ」だったのだと痛感した。失败のおかげで多くのことを学ぶことができた。来年こそは、一回目で成功させようと思っている。ちなみに、PMAでなぜリークが増大するのかは、アルミスパイクや汚染などいくつかの理由が考えられるか、まだ特定はできていない。
简単にみえることの里には、実に様々な复雑な物理现象の组み合わせの妙があるのだと実感した次第である。
(2015/09/01)

惭翱厂电界効果トランジスタ?回路実习风景.
左上は,完成チップ(6×6 mm2,3個)